等离子刻蚀中描述硅氮化物刻蚀效果的量刻蚀率是什么意思?单位为什么是A\m?

来源：学生作业帮编辑：拍题作业网作业帮分类：综合作业时间：2024/04/28 02:36:10

刻蚀率y（单位A/m）,电极间间隙X1（单位cm）,气流（单位SCCM）,和应用在阴极的RF功率（W）是三个影响因素,实验中只有16组数据并且有一半自变量是一致的但刻蚀率相差很多,不知道如何处理,能用量纲分析吗?

你这里的刻蚀率应该是,硅氮化物的可是速率与掩膜的比值.

等离子刻蚀中描述硅氮化物刻蚀效果的量刻蚀率是什么意思?单位为什么是A\m? 什么是等离子刻蚀等离子刻蚀和等离子增强化学气相淀积氢氟酸刻蚀玻璃的化学反应方程式用碘化钾、碘.水组成金的刻蚀液,这些刻蚀液中的金怎么回收? 三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2O=2NO+HNO3+ （2014•宿迁模拟）三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2 四氟化碳与硅和二氧化硅的反应有毒吗,对人体有医学吗,等离子刻蚀机的辐射大吗化学刻蚀如何出缓坡四氟化碳在等离子体刻蚀中对人的危害有哪些? 玻璃中含有SiO2,可用HF来刻蚀玻璃 1．下列说法正确的是 A．硅材料广泛用于光纤通讯 B．工艺师利用盐酸刻蚀石英制作艺术品 C．水晶项链和餐桌

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