作业帮蒸发式真空镀膜机的工作原理
来源：学生作业帮 编辑：拍题作业网作业帮 分类：综合作业 时间：2024/04/29 22:25:47
蒸发式真空镀膜机的工作原理
通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为蒸发镀膜.这种方法最早由M.法拉第于1857年提出,现代已成为常用镀膜技术之一.蒸发镀膜设备结构如图1.蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,待镀工件,如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方.待系统抽至高真空后,加热坩埚使其中的物质蒸发.蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面.薄膜厚度可由数百埃至数微米.膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量）,并与源和基片的距离有关.对于大面积镀膜,常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性.从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程,以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用.蒸气分子平均动能约为0.0.2电子伏.