在微电子工业中,Nh3·H2O可作刻蚀剂H2O2的清除剂,所发生反应的产物不污染环境的化学方程式

在微电子工业中,Nh3·H2O可作刻蚀剂H2O2的清除剂,所发生反应的产物不污染环境的化学方程式 三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2O=2NO+HNO3+ （2014•宿迁模拟）三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2 1.（NH4）2SO4在高温下分解,产物是SO2,H2O,N2,NH3.在该反应的化学方程式中,化学计量数由小到大的产物 在一定条件下,NO与NH3可发生反应生成N2和H2O.现有NO和NH3的混合物1mol,充分反应后,所得产物中,若经还原 在一定条件下,NO2和NH3可以发生反应生成N2和H2O.现有NO2和NH3的混合物3mol,充分反应后所得产物中,若经 三氟化氮（NF3）是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体.它无色、无臭，在潮湿的空气中能发生下列反应：3NF3+5H2O H2O2既有氧化性又有还原性,H2O2在反应中作氧化剂,它的还原产物是? NH3.H2o与NaHSo4反应的化学方程式? 用H2O2、H2O、O2、H、O等符号填空．在反应H2O2→H2O+O2中，反应前后发生改变的微粒是______，生成的 NH3·H2O和H2SO4反应的化学方程式 Cu（OH)2与NH3·H2O反应的化学方程式