物理气相沉积与化学气相沉积的区别图

气象色谱一般由两部分组成,即分析单元和显示单元.一般色谱仪都是通过固定相使目标物质产生热力学的差异,从而让样品中不同物质以不同的速度到达显示单元,最终得到分离样品.质谱仪一般是通过把样品加热打成碎片,

沉积岩的分类是沉积学家首先研究的课题之一,其核心问题是分类的依据要搞清楚.经过几十年的探索和修改,沉积岩的分类日趋一致.实际上,岩石分类是否合理和准确与沉积岩研究的水平和认识程度有着非常直接的关系.我

流水有搬运,侵蚀,堆积,三大作用.

大型气相沉积炉一台规格大约为5米高,2-3米的直径150-220温真空炉温度在2000度左右,高3米,宽3米左右要看有求450--1500

其含义是气相中化学反应的固体产物沉积到表面.CVD装置由下列部件组成；反应物供应系统,气相反应器,气流传送系统.反应物多为金属氯化物,先被加热到一定温度,达到足够高的蒸汽压,用载气（一般为Ar或H2）

手表外观的电离子的镀层,有抗腐蚀、氧化特性!

楼主概念不对膜层一般为蒸发镀膜、溅射镀膜、喷涂镀膜、电离镀膜等方法.溅射镀膜过程中,在靶与基体之间形成了含有离子、电子、中性原子团组成的对外显中性的气体,这就是等离子体.溅射镀膜过程分为物理气象沉积、

这是小学算术题吗.10-15um应该是每小时,那么10um基本上就是在60分钟左右了.

流水侵蚀——河谷、冲沟、黄土高原的千沟万壑地表、喀斯特地貌流水沉积——三角洲.冲积扇、洪积扇、冲积平原风力侵蚀——风蚀地貌、风蚀蘑菇、风蚀城堡、雅丹地貌风力沉积——沙丘、黄土高原的形成

金属有机化学气相沉积（MOCVD）是一种合成方法,尤其适合于膜合成.而发光二极管（LED）是一种半导体器件,本无关联；只是LED中广泛用到膜技术制造.成膜技术很多,除了MOCVD外,还有低压CVD(L

定义　　MOCVD是在气相外延生长(VPE)的基础上发展起来的一种新型气相外延生长技术.缩写　　Metal-organicChemicalVaporDeposition（金属有机化合物化学气相沉淀.原

plasmaenhancedchemicalvapordeposition

我以前的学位论文是关于等离子体化学气相淀积的内容.我不知道你用的等离子体是低温等离子体,还是高温等离子体.如果是高温等离子体（高于1500摄氏度）,恐怕没有现成的设备,需要自己设计、自己找生产工厂加工

pecvd等离子体增强化学气相沉积技术原理是利用低温等离子体作能量源,样品置于低气压下辉光放电的阴极上,利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度,然后通入适量的反应气体,气体经一系列化学反应

电镀指借助外界直流电的作用,在溶液中进行电解反应,使导电体例如金属的表面沉积一金属或合金层.电镀目的是在基材上镀上金属镀层,改变基材表面性质或尺寸.例如赋予金属表面的光泽美观、物品防锈、防止磨耗；提高

湖相沉积与海相沉积有很大的区别.（1）沉积规模的差异：海相沉积的规模大,同一个相带分布范围一般都很大,例如奥陶纪的海相沉积分布在华北,其可对比性要比当地后来形成的湖相沉积地层大得多.（2）湖相沉积以碎

问的应该是氯气吧~物理性质　　氯气①颜色\气味\状态：通常情况下为有强烈刺激性气味的黄绿色的气体.②密度：比空气密度大,标况时是ρ=M/V(m)=(71g/mol)/(22.4L/mol)=3.17g

我们公司有CVD镀膜不过是在玻璃上镀的.再问：因为对这个不是很了解，但是都是用CVD方法，您觉得是否可以为3mm，4mm大小的圆形宝石镀膜呢？再答：不知道你原先在美国给蓝宝石镀膜是在线的吗？个人觉得离

CVD(ChemicalVaporDeposition,化学气相沉积),指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室,在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程.在超大规模

这是机理性的东西,CVD 法是在高温条件下分解含有C元素的原料气体,生成碳原子,甲基原子团等活性粒子,并在合适的工艺条件下,在基底材料上沉积出金刚石膜的方法.对于CVD 金刚石膜的