飞利浦镇流器HF-R和HF-S

用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片（与HNO3的混酸）.用途:由于氢氟酸溶解氧化物的能力,它在铝和铀的提纯中起着重要作用.氢氟酸也用来蚀刻玻璃,半导体工业使用它来除去

这个刚才不有人问了吗晕那个人就是你我说的不信吗?我告诉你硝酸是强氧化性的强酸完全电离而HF是弱酸没有氧化性(或者说小的不能再小,刚才在那边打错了)它是部分电离很少部分!所以它是弱酸强弱酸是根据在水中的

①LF（LateFinish）即为最迟结束时间,是一个活动在不耽误整个项目的结束时间的情况下能够最迟开始的时间.它等于所有紧后工作中最早的一个最晚开始时间.②LF：计算机ASCII码中代表换行（Lin

这很轻松.第一：用氟化钙加浓硫酸加热,生成氟化氢.CaF2+H2SO4(浓)====CaSO4+2HF(g)反应在铜容器中进行,用铅容器接收.第二：用硝酸钠固体与浓硫酸反应,需要微热.2NaNO3+H

腐蚀性极强特别是含有硅的如玻璃腐蚀性强,对牙、骨损害较严重　　健康危害：对皮肤有强烈的腐蚀作用.灼伤初期皮肤潮红、干燥.创面苍白,坏死,继而呈紫黑色或灰黑色.深部灼伤或处理不当时,可形成难以愈合的深溃

根据元素周期律同一主族元素,从上到下非金属性逐渐减弱,气态氢化物水溶液的酸性增强.如:HI>HBr.虽然氯的非金属性比氟强,可是由于HF分子间存在氢键,形成缔合分子,使得HF比HCL难电离,HF电离出

根据元素周期律同一主族元素,从上到下非金属性逐渐减弱,气态氢化物水溶液的酸性增强.如:HI>HBr.虽然氯的非金属性比氟强,可是由于HF分子间存在氢键,形成缔合分子,使得HF比HCL难电离,HF电离出

HF可以腐蚀玻璃是因为HF可以和玻璃的主要成分二氧化硅反应生成SiF4!不是因为氧化性!HClO4>H2SO4(浓)>HNO3(浓)>HClO>HNO3(稀)>HCl(浓)HF不讨论氧化性

可以从很多方面解释因为F、Cl、Br、I的非金属性依次减弱,它们和H的结合能力就减弱,所以可以说是还原性增强但这种说法并不是很严密应该说是因为同主族元素核电荷数依次增加,原子半径依次增大,最外层电子离

这3款电子镇流器应该是市场定位不同吧,我知道的像HF-R是可调光镇流器,而HF-P是高端电子镇流器,但不能调光,具体选择还是要看实际需求,

gg=goodgame或greatgame:伟大的游戏gl=goodluck:好运hf=havefun:玩的愉快

根据元素周期律,同一主族元素从上到下,原子半径越来越大,得电子能力越来越弱,非金属性越来越弱.判断元素非金属性方法之一就是根据单质与氢气化合的难易程度,以及形成氢化物的稳定性.得电子能力越强,形成气态

虽然HF的腐蚀性很强,可以腐蚀玻璃,但是它在水中不是完全电离,是弱酸

氢氟酸的密度是1.298你要配置的质量是多少?再问：我刚才看了，HF是分析纯的，质量分数应该是40%，我就是想知道配一定体积的溶液，比如100ml，需要的氢氟酸和水分别是多少毫升。谢谢你的回答。再答：

浓硫酸沸点高不易挥发这是利用高沸点酸制挥发性酸

氢氟酸是弱酸,比亚硝酸弱一些,但是无水氢氟酸是强酸噢!酸性会突越10^9～10^11的!

玻璃的主要成分是二氧化硅,方程式如下：2F2+SiO2===SiF4+O2（置换反应,氟的非金属性,氧化性强于氧气）4HF+SiO2===SiF4+2H2O（四氟化硅为气体）

相同浓度的情况下H3PO4的酸性强,HF分子间作用力非常大,很难分解出H+

BF3是常见的缺电子体,中心B原子有空轨道,可以接受孤对电子SiF4是少见的价层可以扩展的分子,中心原子硅周围最多可以有六对电子CF4中的C是sp3杂化,价层已满,不能再接受孤对电子

不能直接用H2和F2来制备HF是因为原料成本高,反应条件不容易控制.