磁控溅射铝靶电压上不来-搜答案-拍题作业网

Ti靶工作气体：Ar+N2---->TiN：金黄色,耐磨.

设备：离子泵零件：表面防腐、表面美化金属化、金属渗入等应用：透明光学膜、导电膜等还有其他的很多应用,由于本人能力有限,不能全部概括.

我用过金润磁控镀膜厂的质量还不错

陕西大师膜业提醒您：一、首先要理解隔热膜的概念,隔热膜一般是由PET（PET是一种耐久性强、坚固耐潮、耐高、低温性均佳的材料.它清澈透明,经金属化镀层、磁控溅射、夹层合成等多种工艺处理,成为具有不同特

磁控溅射?它的靶材不该是个厚片（5~6mm）吗?圆柱形?如果就是一般用的磁控溅射靶材,应该是没有影响,只要保证在溅射过程中不露底就成.当然什么时候露底取决于你的溅射速率.不锈钢靶没用过.钛靶+（Ar+

一台锅炉出力大小看的是蒸汽流量,如蒸汽流量过大已超过锅炉的出力当然压力就上不来.再则由于锅炉本身的原因:如积垢、管子表面或炉内积灰等都会造成热交换不好,燃烧不好,煤质等这些都有可能造成锅炉出力不够而使

一般的磁控溅射基材都是不加温的,镀膜过程中,原子、原子团、分子沉积在基材上引起的温度升高一般不会太高,当然如果想附着力提高的话,提前预热基材倒是可以的.一般普通磁控溅射基材温度也就40-50℃.溅射材

ITO的靶基距在100-200mm之间最好,用中频时靶基距应该更小.靶基距和当时的真空度、靶的尺寸、靶电流和表面温度等有关,不可一概而论.再问：靶基距一般都是100mm范围内最好，怎么你的数据会那么大

虽然不知道你说的ZO是什么材料,从你描述的现象里看应该是靶中毒.明显你的靶材导电性不好,另一块靶材可能掺Al更加均匀,所以溅射时间长一些.

可以做用O2气加钛把才可以镀七彩色镀膜时间10分钟气体4的X10-1

您问的这个问题可是我见到的最专业的膜的问题,我们知道目前最好的玻璃膜就是真空磁控溅射膜,磁控溅射的形式不同,可原理应该是一样的,就是把金属或说是稀有金属溅射到PET基材上,可以是一层和多层.要均匀分布

溅射方法制备的薄膜组织可依沉积条件不同而呈现四种不同的组织形态.除了衬底温度因素以外,溅射气压对薄膜结构也有着显著的影响.形态越靠后,粘结力越强.结合力一般与粘结力有关,粘结力强多为范德华力的作用.薄

靶材中毒主要原因是介质合成速度大于溅射产额（氧化反应气体通入太多）,造成导体靶材丧失导电能力,只有提高击穿电压,才能起辉,电压过高容易发生弧光放电.现象：靶电压长时间不能达到正常,一直处于低电压运行状

我留下你的联系方式再问：649047514麻烦了啊

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你问的问题太笼统了,其实知道原理就行了,万变不离其宗,

主要的溅射方法可以根据其特征分为以下四种：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）磁控溅射；（4）反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积.磁控溅射是在二极直流溅射的基础上,在靶表面附近

直流磁控溅射只能使用金属靶材,射频（13.56MHz）溅射由于高频的场效应可以使靶材的应用扩展到非金属材料,比如陶瓷材料等等.

没有镀过Al,不知道辉光的准确颜色.但是是不是你气压设置或者基片温度有问题呢?磁控溅射控制参数就这么几个了.既然能起辉,至少电流值应该在可选范围内了

主要的溅射方法可以根据其特征分为以下四种：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）磁控溅射；（4）反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积.现在的直流溅射（也叫二级溅射）较少用到,原因是