作业帮磁控溅射
来源：学生作业帮助网 编辑：作业帮 时间：2024/04/30 13:53:53
Ti靶工作气体：Ar+N2---->TiN：金黄色,耐磨.
设备：离子泵零件：表面防腐、表面美化金属化、金属渗入等应用：透明光学膜、导电膜等还有其他的很多应用,由于本人能力有限,不能全部概括.
我用过金润磁控镀膜厂的质量还不错
用直流磁控溅射就可以了.再问：能详细点吗比如工艺参数再答：本底真空，工作分压。电源电压值，电流值。
陕西大师膜业提醒您：一、首先要理解隔热膜的概念,隔热膜一般是由PET（PET是一种耐久性强、坚固耐潮、耐高、低温性均佳的材料.它清澈透明,经金属化镀层、磁控溅射、夹层合成等多种工艺处理,成为具有不同特
磁控溅射原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片.氩离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片
前者为离子轰击靶材,然后靶材物质溅射,沉积在基片上.后者物质加热,达到熔点,再达到沸点,蒸发至基片上.
你先做硅靶的分压先通一定量的AR,达到你工艺需要的真空度以后,(一般0.3-0.5Pa）在通入O2,我不知道你设备的大小,要是设备大的话以10为单位,10、20、30.一点点的加,要是小的话,就以2为
一面贴一种.或者分别贴.先贴磁控溅射的膜,因为比较薄.过几天,等干透了,再贴另一层.
能否镀出红色,主要还在膜层结构和反应气体上,我们使用的铜靶、铝靶、钢靶、钛靶、合金铝靶、都是可以镀出红色的,工作气体为氩气,反应气体是氧气、氮气、乙炔、甲烷、等都可以.
现在沿海地区基本上哪都可以?看你需要做什么的膜层和要求了!
南玻的?幸会.膜面放电属于常见问题,其原因是等离子体导电现象严重,放点区域较大.根据磁控溅射镀膜情况可以分为：1.基体距离靶材较近,（此类情况基本可以排除,一般来说距离超过15厘米就没有多大问题）2.
你问的问题太笼统了,其实知道原理就行了,万变不离其宗,
主要的溅射方法可以根据其特征分为以下四种：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）磁控溅射；（4）反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积.磁控溅射是在二极直流溅射的基础上,在靶表面附近
直流磁控溅射只能使用金属靶材,射频（13.56MHz）溅射由于高频的场效应可以使靶材的应用扩展到非金属材料,比如陶瓷材料等等.
当然了目前世界上膜业最先进的技术就是磁控溅射圣科(SUNTek)贝卡尔特在中国的大部分都是这种膜,所以说这种膜的价格也是比较高的了.为什么说这种膜的工艺最高呢?因为他是有金属磁控溅射的,永久不会腿色,
没有镀过Al,不知道辉光的准确颜色.但是是不是你气压设置或者基片温度有问题呢?磁控溅射控制参数就这么几个了.既然能起辉,至少电流值应该在可选范围内了
主要的溅射方法可以根据其特征分为以下四种：（1）直流溅射；（2）射频溅射；（3）磁控溅射；（4）反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积.现在的直流溅射（也叫二级溅射）较少用到,原因是
1直流和射频是对加在靶上的电源所说的.本质区别自然就在直流是持续不间断加在上面,射频是具有一定的频率（13.56MHz）间隔加在靶上的.详细解释只能去看书,还不让粘贴,没人会找本书来给你慢慢敲在这里2