作业帮氢氟酸除硅反应
来源：学生作业帮助网 编辑：作业帮 时间：2024/05/01 14:01:50
再问：��������再答：����
就是会有气泡产生的呀
加硝酸,因为硝酸才是提供氧化性的物质.最佳的氢氟酸酸浸温度为70℃,温度过高氟化氢挥发过多,不好.酸浸时间4h.
常温就可以了.氢氟酸是弱酸,常温下可以和硅反应,只不过反应速率很小,所以不容易察觉,但是提高温度时反应速度迅速增加,反应如下：根本原因是四氟化硅是气体,挥发了.Si+4HF=SiF4(g)+H2(g)
所有种类的硅酸都有一个通式：(SiO2)x(H2O)y原硅酸H4SiO4就是（SiO2）1（H2O）2一般说的硅酸是指偏硅酸,H2SiO3（(SiO2)1(H2O)1）反应就相当于二氧化硅跟氢氟酸的反
硝酸才是提供氧化性的物质~本例中不能看做氢离子反应中硝酸会被还原为氮氧化物不加硝酸该反应几乎不能发生至少你看不到冒泡同样如果是为了加氢离子你可以事实硫酸同样不反应原理,硝酸强氧化性不用说了吧这个反应是
Si+4HF=SiF4+2H2这是用来割玻璃用的.
Si3N4+18HF=2(NH4)[HSiF6]+(NH4)2[SiF6]首先是Si3N4+12HF=SiF4+4NH3,SiF4会进一步和HF作用生成H2SiF6（氟硅酸）,这是一种二元强酸,NH3
首先,硅是碳族元素,你说,HNO3氧化性那么强它是不是可以氧化碳呢,回答是不可以的,主要原因是,HNO3是在溶液里氧化性很强,如果你加的物质根本不溶于溶液,那它还能反应吗,硅能溶于HF这是个特例,不能
氧化铜是可以与氢氟酸反应的：1、如果HF较稀,那反应只发生在氧化铜表面,因为生成的CuF2溶解度较小,附在固体表面后,阻止进一步反应；CuO+2HF=CuF2(s)+H2O2、如果HF较浓,此时HF变
生成四氟化硅和水SiO2+4HF=SiF4+2H2O
化学反应的趋向性重在分析离子间的结合能力如硫酸铝的的硫酸根和铝离子的结合能力不强,所以能完全电离而氢氟酸的结合能力强一点,不完全电离但这两种溶液混合后铝离子与氟离子的结合能力比氢离子和氟离子的结合能力
Si+4HF==SiF4↑+2H2↑生成四氟化硅（氟化硅）和氢气
3Si+18HF+4HNO3=3H2SiF6+4NO↑+8H2O
你肯定记错了,硫酸没有挥发性,除单质硅时用的也不是硫酸而是硝酸.反应时,硝酸作为氧化剂将Si（0）氧化成Si（IV）,氢氟酸与其配位形成SiF62-使其不至于以SiO2形式沉积在硅表面妨碍反应
可以反应吗?是二氧化硅和氢氟酸吧SiO2+4HF=2H2O+SiF4
反应方程式：Si+4HNO3+6HF=H2SiF6+4NO2↑+4H2O硝酸做氧化剂,氢氟酸做络合剂（硝酸在的情况下不会有氢气生成）
Si+4HF==SiF4↑+2H2↑生成四氟化硅（氟化硅）和氢气
Si+4HF==SiF4(上升)+2H2(上升)
解题思路：二氧化硅和氢氟酸反应得到四氟化硅，四氟化硅是气体。解题过程：二氧化硅与氢氟酸反应的化学方程式为SiO2+4HF=SiF4↑+2H2OSiF4怎么读，它是沉淀，所以要加向下的箭头？解