以下不是物理气相沉积法

来源:学生作业帮助网 编辑:作业帮 时间:2024/05/10 02:09:12
水变成气物理现象有哪些

水变成气的物理现象大概有两类:一是液态水的汽化,由液态的水变成了气态的水蒸气,它包括蒸发和沸腾两种方式.二是水的固体状态,那就是冰的升华现象,它直接由固态的冰升华成了气态的水蒸气,比如:冬天冰冻的衣服

高温真空炉(2000度左右)和大型气相沉积炉大约价值是多少?

大型气相沉积炉一台规格大约为5米高,2-3米的直径150-220温真空炉温度在2000度左右,高3米,宽3米左右要看有求450--1500

请问CVD(化学气相沉积)的原理及应用?

其含义是气相中化学反应的固体产物沉积到表面.CVD装置由下列部件组成;反应物供应系统,气相反应器,气流传送系统.反应物多为金属氯化物,先被加热到一定温度,达到足够高的蒸汽压,用载气(一般为Ar或H2)

磁控溅射镀膜与等离子体化学气相沉积镀膜的区别?

楼主概念不对膜层一般为蒸发镀膜、溅射镀膜、喷涂镀膜、电离镀膜等方法.溅射镀膜过程中,在靶与基体之间形成了含有离子、电子、中性原子团组成的对外显中性的气体,这就是等离子体.溅射镀膜过程分为物理气象沉积、

帮忙看下如何用气相色谱分离以下两种物质?

没有做过,不过自己可以摸索一下汽化室温度高于二者最高沸点10-20℃.二甲苯沸程为137~140℃,丙二醇甲醚醋酸脂沸点146°C.汽化室温度可以选择160°C,因为二者沸点很接近,所以柱文要低,可以

解决一下以下物理竞赛题.

国培力学上的,你可以看一下这本书,很有用

金属有机化学气相沉积系统(MOCVD)与LED的关系?

金属有机化学气相沉积(MOCVD)是一种合成方法,尤其适合于膜合成.而发光二极管(LED)是一种半导体器件,本无关联;只是LED中广泛用到膜技术制造.成膜技术很多,除了MOCVD外,还有低压CVD(L

什么是真空气相沉积晶体

定义  MOCVD是在气相外延生长(VPE)的基础上发展起来的一种新型气相外延生长技术.缩写  Metal-organicChemicalVaporDeposition(金属有机化合物化学气相沉淀.原

利用排空气法如图所示装置收集以下8中气体:

没图  不好回答再问:这个再答:A、选2、4、7、8、   B、选 1、3、6、气体由a进  C、选1、3、5、  D、选1、2、3、4、7、8  气体由b进

有没有GS400-2型等离子体增强化学气相沉积设备?

我以前的学位论文是关于等离子体化学气相淀积的内容.我不知道你用的等离子体是低温等离子体,还是高温等离子体.如果是高温等离子体(高于1500摄氏度),恐怕没有现成的设备,需要自己设计、自己找生产工厂加工

深海沉积 有无沉积旋回

沉积旋回是反映水动力强弱变化的典型标志,在深海没有沉积旋回,但是由于沉积物特征的差异会出一层一层不同性质的沉积,有点像层理,不能叫沉积旋回

什么是电化学沉积法?

利用点荷正负吸引,使其带电,然后再用反点荷去沉淀

怎样防止气瓶的物理爆炸

严格遵守气瓶安全使用事项,禁止野蛮装卸,保证充装压力符合要求,严禁接近火源,严禁暴晒等.

碌气的性质(物理、化学)

问的应该是氯气吧~物理性质  氯气①颜色\气味\状态:通常情况下为有强烈刺激性气味的黄绿色的气体.②密度:比空气密度大,标况时是ρ=M/V(m)=(71g/mol)/(22.4L/mol)=3.17g

CVD(化学气相沉积)镀膜,如为宝石镀膜,国内有这样的厂家做吗?

我们公司有CVD镀膜不过是在玻璃上镀的.再问:因为对这个不是很了解,但是都是用CVD方法,您觉得是否可以为3mm,4mm大小的圆形宝石镀膜呢?再答:不知道你原先在美国给蓝宝石镀膜是在线的吗?个人觉得离

CVD(化学气相沉积)的原理及应用是什么

CVD(ChemicalVaporDeposition,化学气相沉积),指把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室,在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程.在超大规模

英语翻译詹婉莹[13]采用封闭场非平衡磁控溅射法在高速钢基体上,共沉积MoS2-Ti涂层和陶瓷相TiB2,获得MoST-

金属、陶瓷、过渡族金属硫化物都具有以下的复合优化机制.其中“复合优化机制”翻译为Compositeoptimizationmechanism再问:TiB2的复合促使这里呢复合优化机制中复合我想用一个动

化学气相沉积法由CH4制金刚石薄膜的反应原理

这是机理性的东西,CVD 法是在高温条件下分解含有C元素的原料气体,生成碳原子,甲基原子团等活性粒子,并在合适的工艺条件下,在基底材料上沉积出金刚石膜的方法.对于CVD 金刚石膜的